Bu çalışmada Ta2O5 ve SiO2 ince filmlerinden yapılan üç kat yansıtmayıcı filtrelerin sonuçları sunulmuştur. Filmleri hazırlamak için sol-gel döndürerek kaplama yöntemi kullanılmıştır. Filmlere 100°C’de 5 dakika ve 450°C’de 15 dakika ısıl işlem uygulanmıştır. Filmlerin yansıtma ve geçirgenliği NKD sistem (kırma indisi, söndürme indisi ve kalınlık ölçüm sistemi) kullanılarak elde edilmiştir. Filmlerin kalınlığı ve kırma indisi NKD sistemindeki yazılım ile hesaplanmıştır. Geçirgenlik ve yansıtma için teorik hesap transfer matris yöntemi kullanılarak yapılmıştır. Farklı oranlardaki Ta2O5 ve SiO2 karışımı filmlerin 100°C’de ve 450°C’de kırma indisi ve kalınlık gradyentleri elde edilmiştir. Sonuçlar 100°C’de ısıl işlem uygulanan sistem için 950 nm de, 450°C’de ısıl işlem uygulanan sistem için 790 nm de %1’in altında yansıtma göstermektedir.