Sol-gel Yöntemiyle Hazırlanan Sio2-ta2o5 Katmanlı Yansıtmayıcı Kaplamalar

Abstract

Bu çalışmada Ta2O5 ve SiO2 ince filmlerinden yapılan üç kat yansıtmayıcı filtrelerin sonuçları sunulmuştur. Filmleri hazırlamak için sol-gel döndürerek kaplama yöntemi kullanılmıştır. Filmlere 100°C’de 5 dakika ve 450°C’de 15 dakika ısıl işlem uygulanmıştır. Filmlerin yansıtma ve geçirgenliği NKD sistem (kırma indisi, söndürme indisi ve kalınlık ölçüm sistemi) kullanılarak elde edilmiştir. Filmlerin kalınlığı ve kırma indisi NKD sistemindeki yazılım ile hesaplanmıştır. Geçirgenlik ve yansıtma için teorik hesap transfer matris yöntemi kullanılarak yapılmıştır. Farklı oranlardaki Ta2O5 ve SiO2 karışımı filmlerin 100°C’de ve 450°C’de kırma indisi ve kalınlık gradyentleri elde edilmiştir. Sonuçlar 100°C’de ısıl işlem uygulanan sistem için 950 nm de, 450°C’de ısıl işlem uygulanan sistem için 790 nm de %1’in altında yansıtma göstermektedir.This work present the result of three layer antireflecting filters made from Ta2O5 and SiO2 thin films. Sol-gel spin coating method is used to prepare the films. The films are heat treated at 100°C for 5 minutes and at 450°C for 15 minutes. The transmittance and reflectance of the films are obtained using NKD system (refractive index, extinction coefficient and thickness measuring system). The thickness and refractive index are calculated by making use of the software which is installed in the NKD system. A theoretical calculation is also made for the transmission and reflection by using transfer matrix method. Refractive indices and thickness gradients are obtained for various mixtures of Ta2O5 and SiO2 films at 100°C and 450°C. The result shows less than %1 reflectance at 950 nm for the system heat treated at 100°C and at 790 nm for the system heat treated at 450°C.