Iı-vı Grubu Yarıiletken Nano Yapılı İnce Filmlerin Sol-jel Yöntemi İle Üretimi

Abstract

Bu çalışmada kolloidal, toz ve ince film formundaki 3-mercaptopropyltrimethoxysilane (MPS) kuşatımlı CdS ve ZnS kuantum noktalar sol-jel yöntemi ile üretilmiştir. Kolloidal ve toz formunda üretilen kuantum noktaların boyutları 2.5-3 nm arasında bulunmuştur. Kolloidal nanoparçacıklar başka bir matris içine katılmadan kendiliğinden monte olarak doğrudan cam taşıyıcı üzerine döndürerek kaplama yöntemi ile kaplanmıştır. Üretilen filmlere ısıl işlem uygulanmış ve Oswald olgunlaşması nedeni ile ısıl işlem sıcaklığı ve süresi artığında kuantum noktaların ortalama boyutlarının artığı gözlenmiştir. Kuantum noktaların ısıl işlemle büyüme süreci LSW teorisine göre incelenmiştir. Bu çalışmada üretilen filmlerin optik ve yapısal özellikleri de incelenmiştir. Bu incelemeler sonucunda filmlerin kırma indisleri, söndürme katsayıları, dielektrik sabitleri ve kalınlıkları bulunmuştur.

In this study, colloidal, powdered and thin film forms of 3-mercaptopropyltrimethoxysilane (MPS)-capped CdS and ZnS quantum dots have been produced by sol-gel method. The sizes of quantum dots produced in colloidal and powder forms were found in between 2.5 and 3 nm. Colloidal nanoparticles were self-assembled directly on a glass substrate using spin coating method without introducing any matrix. Thermal treatment was applied to the produced films and it was observed that as the treatment temperature and time increased, the average diameter of quantum dots increased due to Ostwald ripening. The thermal process used to grow the size of quantum dots was examined according to LSW theory. In this study, also the optical and structural characteristics of the produced films were investigated. As a result of these investigations, the refractive index, extinction coefficients, dielectric constants, and the thicknesses of the films were determined.