Please use this identifier to cite or link to this item: http://hdl.handle.net/11527/9464
Title: D.a. Manyetik Alanda Sıçratma Yöntemi İle Tungsten Karbür İnce Filmlerin Üretimi Ve Karakterizasyonu
Other Titles: Synthesis And Characterization Of Tungsten Carbide Thin Films By Dc Magnetron Sputtering
Authors: Yücel, Onuralp
Begüm, Ceren
434525
Malzeme Mühendisliği YL.
Materials Engineering MSc.
Keywords: tungsten karbür
ince film
doğru akım manyetik alanda sıçratma
mekanik özellikler
tribolojik özellikler
tungsten carbide
thin film
DC magnetron sputtering
mechanical properties
tribological properties
Issue Date: 6-Jan-2013
Publisher: Fen Bilimleri Enstitüsü
Institute of Science and Technology
Abstract: Bu çalışmada doğru akım manyetik alanda sıçratma yöntemi ile argon atmosferinde, yüksek hız çeliği ve silisyum (100) plakaları üzerine tungsten karbür ince filmler biriktirilmiştir. Sıçratma işleminde %7 oranında bağlayıcı olarak kobalt içeren sinterlenmiş tungsten karbür (WC-Co) hedef malzeme kullanılmıştır. Filmler aynı sürelerde farklı bias voltajı değerlerinde ve farklı sıcaklıklarda biriktirilmiştir. Oda sıcaklığında ve 250⁰C’de biriktirme işlemleri gerçekleştirilmiş, bias voltajı değerleri 0-200V aralığında arttırılarak filmlerin özellikleri değiştirilmiştir. Böylelikle bias voltajı ve biriktirme sıcaklığı gibi parametrelerin film özelliklerine etkisi gözlenmiştir. Filmlerin kalınlık ve mikroyapılarının tespiti için SEM analizleri gerçekleştirilmiş, kimyasal bileşimleri ise EPMA ile tespit edilmiştir. XRD cihazı ile filmlerin faz analizi gerçekleştirilmiştir. Mekanik özellikleri ise nanoindentasyon ve aşınma testleriyle analiz edilmiştir. Artan bias ve sıcaklık değerlerinin etkisiyle kaplamaların mekanik ve tribolojik özelliklerinin önemli oranda iyileştiği gözlenmiştir.
In this study, tungsten carbide thin films were deposited on high speed steel and Si (100) substrates by DC magnetron sputtering of tungsten carbide target having 7% cobalt as binding material. The properties of the coatings have been modified by the change in the bias voltage from 0V to 200V and by the deposition temperature from room temperature to 250⁰C. The morphology and thickness of the films were determined from the cross-sectional SEM images. The chemical composition of the film was determined by EPMA. XRD has been used for the phase analyses. Nanoindentation and wear tests were carried out to determine the mechanical properties of the films. The results of the analyses provided key information about the relationship between the deposition parameters and the microstructural and mechanical properties of WC films.
Description: Tez (Yüksek Lisans) -- İstanbul Teknik Üniversitesi, Fen Bilimleri Enstitüsü, 2012
Thesis (M.Sc.) -- İstanbul Technical University, Institute of Science and Technology, 2012
URI: http://hdl.handle.net/11527/9464
Appears in Collections:Malzeme Mühendisliği Lisansüstü Programı - Yüksek Lisans

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
12709.pdf2.84 MBAdobe PDFView/Open


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.