Manyetik Alanda Sıçratma Yöntemi İle Üretilen Niti Hafızalı Alaşım Filmlerin Karakterizasyonu

Abstract

NiTi hafızalı alaşımlar kararlılık, yüksek korozyon direnci ve biyouyumluluk gibi özellikleri içermeleri açısından hafızalı alaşımların ticari alandaki kullanımında ayrı bir öneme sahiptirler. Sıçratma yöntemi ile üretilen NiTi hafızalı alaşım filmler, mikroelektromekanik sistemlerde (MEMS) katı hal aktive edicisi olarak kullanılabilecek yeni bir malzeme tipi oluştururken, tıp alanında da bu önemde benzer kullanım sahaları oluşturmuştur. Bu çalışmada, NiTi hafızalı alaşım filmler manyetik alanda sıçratma yöntemiyle farklı hedef malzeme gücü ve argon basıncı koşullarında gerçekleştirilmiştir. Kaplama sonrası filmlerin amorf olması sebebiyle, filmler farklı sıcaklıklarda ve yüksek vakumda tavlanmışlardır. Sonuç olarak, değişen sıçratma koşulları ve tavlama sıcaklıklarının üretilen kaplamaların kristalizasyonu ve faz dönüşümleri üzerindeki etkileri incelenmiştir.Shape memory alloys (SMAs) based on NiTi have provided the best combination of material properties for the most commercial applications due to their combination of material properties, stability, good corrosion resistance and biocompatibility. NiTi thin films produced by sputtering offers a promising new material for solid state actuation in the MEMS field as well as new possibilities for medical devices. In this study, NiTi SMA films were produced by magnetron sputtering technique under different target power and argon pressure conditions. Because as-deposited films were amorphous, they were annealed at different temperatures under high vacuum. As a result, effects of varying sputtering conditions and annealing temperatures on the crystallization and phase transformation of the films were investigated.