Ark Fiziksel Buhar Biriktirme Yöntemi İle Metalik Taban Malzemeleri Üzerinde Tio2 İnce Filmlerin Üretimi

Abstract

Fotoaktif TiO2 ince filmler birçok alanda kullanılmaktadırlar. TiO2 filmler ultraviyole ışığa maruz kaldıklarında organik bileşikleri parçalayacak kadar kuvvetli oksidasyon enerjilerine sahip olmaktadırlar. Bu çalışmanın amacı, ark fiziksel buhar biriktirme yöntemi ile Ti ve paslanmaz çelik taban malzemesi üzerinde TiO2 ince filmlerin üretimi ve fotokatalitik özelliklerinin ölçülmesidir. Manyetik fokuslama ve taban malzemesinin sıcaklığı filmlerin kristal yapısını ve fotokatalitik özelliklerini etkileyen önemli parametreler olarak ortaya çıkmaktadır.

Photoactive TiO2 thin films are commonly used in various fields. TiO2 films exhibit strong oxidation power to breakdown organic compounds when exposed to ultraviolet light. The aim of present study is to prepare TiO2 thin films on Ti and stainless steel substrates by cathodic arc deposition method and measure their photocatalytic activities. Magnetic focusing and substrate temperature are reported as the important parameters affecting the crystal structure and photocatalytic activity.