Katodik Ark Fbb Yöntemi İle Dekoratif Amaçlı Cr-o-n Kaplamaların Üretilmesi

Abstract

Bu çalışmada, Katodik ark FBB yöntemi ile dekoratif amaçlı Cr-O-N kaplamalar üretilmiştir. Kaplama kalınlığına bağlı olarak ınterferans etkisi ile Cr-O-N kaplamaların rengi değişebilmektedir. Bu sayede tek katod malzemesi kullanılarak görünebilir spektrumdaki renklerin pek çoğu elde edilebilmektedir. Çalışmada öncelikle değişik basınç ve reaktif gaz akış oranlarında ön denemeler yapılarak renk dağılımının homojen olduğu çalışma parametreleri belirlenmiştir. Kaplama kalınlıkları cam numune üzerinden x-ışınları reflektometre tekniği ile ölçülmüştür. Kaplamaların renkleri L*a*b* renk modeline göre ölçülerek tanımlanmış, ayrıca 400-700 nm arasında yüzde yansıma değerleri tesbit edilmiştir. Bu ölçümler sonucunda kaplama kalınlığının değişimi ile birlikte belirli dalgaboylarında interferans etkisi ile minimum yansımaların elde edildiği görülmüştür. Ayrıca kaplamaların faz yapıları XRD yöntemiyle incelenmiş, değişik taban malzemeler üzerine aynı koşullarda yapılan kaplamaların farklı yapı özellikleri gösterdiği tesbit edilmiştir.

In this study using the Cathodic Arc PVD technique, Cr-O-N coatings are produced. Depending on the thickness of the coating, apparent color of the coating changes due to light interference. Hence it is possible to obtain almost every color in the visual spectrum. Initially optimum pressure and reactive gas flow ratios were determined, in order to obtain homogeneous color distribution on coated samples. Coating thicknesses were measured by X-ray reflectometry. Color measurements were done according to L*a*b* color model, also reflectance percentage of the coatings between 400-700 nm spectrum was measured. Reflectance measurements indicated that the coatings have minimum reflectivity points because of destructive interferance, and these points change according to thickness of the coatings. Also phase structure of coatings on different substrates was investigated by XRD. Coatings that were deposited on different substrates under same operation conditions have different structural characters.