Tekstil Hazırlama Ön İşleminde Kullanılan Kimyasallarının Noniyonik Yüzey Aktif Madde Nonil Fenol Etoksilatın H2o2/uv-c Oksidasyonuna Etkileri
Tekstil Hazırlama Ön İşleminde Kullanılan Kimyasallarının Noniyonik Yüzey Aktif Madde Nonil Fenol Etoksilatın H2o2/uv-c Oksidasyonuna Etkileri
dc.contributor.advisor | Arslan Alaton, İdil | tr_TR |
dc.contributor.author | Shayin, Sarina | tr_TR |
dc.contributor.department | Çevre Mühendisliği | tr_TR |
dc.contributor.department | Environmental Engineering | en_US |
dc.date | 2010 | tr_TR |
dc.date.accessioned | 2010-07-09 | tr_TR |
dc.date.accessioned | 2015-09-02T11:25:25Z | |
dc.date.available | 2015-09-02T11:25:25Z | |
dc.date.issued | 2010-07-09 | tr_TR |
dc.description | Tez (Yüksek Lisans) -- İstanbul Teknik Üniversitesi, Fen Bilimleri Enstitüsü, 2010 | tr_TR |
dc.description | Thesis (M.Sc.) -- İstanbul Technical University, Institute of Science and Technology, 2010 | en_US |
dc.description.abstract | Bu deneysel çalışmada, klorürün (3 g/L), sodyum karbonatın (karbonat-bikarbonat sistemi, 1-5 g/L) ve iki organik yüzey aktif maddenin (0.5-2.5 g/L DTPMP, dietilen triamin penta metilen fosfonik asit, ayrıca 0.5-1.5 g/L HEDP; 1-hydroksi etiliden-1,1-difosfonik asit) tekstil elyafı hazırlama işleminde yoğun olarak tüketilen ve 10 etoksilat grubu içeren, noniyonik bir yüzey aktif madde nonil fenol etoksilatın (NFEO; NP-10) H2O2/UV-C arıtma prosesi ile ileri oksidasyonuna etkileri incelenmiştir. ) H2O2/UV-C deneyleri, başlangıç konsantrasyonu 450 mg/L KOİ’ye eşdeğer 210 mg/L NPEO ile, başlangıç H2O2 konsantrasyonu 30 mM; tipik tekstil ön hazırlama işlemi pH’sı olan 10.5-11.5 ortak reaksiyon koşullarında gerçekleştirilmiştir. Tekstil yardımcılarının NPEO’ın fotokimyasal arıtma performansında neden oldukları değişiklikler, ana madde (NPEO), KOİ, TOK giderim verimleri ve kinetikleri, ayrıca pH değişimleri ve H2O2 tüketim hızı bazında değerlendirilmiştir. Deneysel çalışmanın ikinci aşamasında ise H2O2/UV-C fotokimyasal arıtma prosesinin dört farklı tekstil ön hazırlama işleminden kaynaklanan sentetik olarak hazırlanmış atıksulara uygulanabilirliği karşılaştırmalı olarak araştırılmıştır. | tr_TR |
dc.description.abstract | The present experimental study aimed at investigating the effect of common salt (3 g/L chloride), soda ash (carbonate-bicarbonate system, 1-5 g/L), and two commercially important organic sequestering agents (0.5-2.5 g/L DTPMP, i.e. diethylene triamine penta-methylene phosphonic acid and 0.5-1.5 g/L HEDP; 1-hydroxy ethylidene-1,1-diphosphonic acid) employed at concentrations being typically found in textile preparation effluents, on the H2O2/UV-C degradation of the commercially important nonionic textile surfactant nonylphenol ethoxylate (NPEO), a 10-fold ethoxylated nonyl phenol formulation called NP-10 (NPEO=210 mg/L, corresponding to a COD of 450 mg/L). H2O2/UV-C experiments were conducted at an initial H2O2 concentration of 30 mM and an initial pH of 10.5 and 11.5, being typical for textile preparation effluents. Treatment efficiencies and degradation rates were comparatively evaluated in terms of parent pollutant (NPEO), COD and TOC abatements as well as pH changes and H2O2 consumption kinetics. In the second part of the experimental study, the application of H2O2/UV-C treatment on effluents originating from four different simulated textile preparation effluents was investigated to apply H2O2/UV-C treatment to actual preparation wastewater. | en_US |
dc.description.degree | Yüksek Lisans | tr_TR |
dc.description.degree | M.Sc. | en_US |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/11527/9008 | |
dc.publisher | Fen Bilimleri Enstitüsü | tr_TR |
dc.publisher | Institute of Science and Technology | en_US |
dc.rights | İTÜ tezleri telif hakkı ile korunmaktadır. Bunlar, bu kaynak üzerinden herhangi bir amaçla görüntülenebilir, ancak yazılı izin alınmadan herhangi bir biçimde yeniden oluşturulması veya dağıtılması yasaklanmıştır. | tr_TR |
dc.rights | İTÜ theses are protected by copyright. They may be viewed from this source for any purpose, but reproduction or distribution in any format is prohibited without written permission. | en_US |
dc.subject | Tekstil hazırlığı kimyasalları | tr_TR |
dc.subject | H2O2/UV-C | tr_TR |
dc.subject | NPEO | tr_TR |
dc.subject | Textile preparation auxiliaries | en_US |
dc.subject | H2O2/UV-C | en_US |
dc.subject | NPEO | en_US |
dc.title | Tekstil Hazırlama Ön İşleminde Kullanılan Kimyasallarının Noniyonik Yüzey Aktif Madde Nonil Fenol Etoksilatın H2o2/uv-c Oksidasyonuna Etkileri | tr_TR |
dc.title.alternative | Effect Of Textile Preparation Chemicals On The H2o2/uv-c Oxidation Of The Nonionic Surfactant Nonyl Phenol Ethoxylate | en_US |
dc.type | masterThesis | en_US |