Yayın:
Demir (ııı) İyonu Bazlı Foto-fenton Oksidasyon Proseslerinde Işık Şiddetinin Ve Türünün İrdelenmesi: K-asit Üzerine Bir Çalışma

Yükleniyor...
Küçük Resim

Kurum Yazarları

Bölüm / Program

Çevre Mühendisliği
Environmental Engineering

Dergi Başlığı

Dergi ISSN

Cilt Başlığı

Yayıncı

Fen Bilimleri Enstitüsü
Institute of Science and Technology

Araştırma Projeleri

Akademik Birimler

Dergi Sayısı

Özet

Bu çalışmada, ticari olarak önemli, sahip olduğu üç sülfonat grubu nedeni ile polaritesi yüksek ve oksidatif reaksiyonlara direnç gösteren bir naftalen sülfonat olan, K-asit (KA) model kirleticisinin sulu çözeltilerinin foto-Fenton benzeri (Fe3+/H2O2/UV-A) ileri oksidasyon prosesi (İOP) kullanılarak arıtılabilirliği araştırılmıştır. Başlıca proses değişkenlerinin (başlangıç pH değeri, giriş KOİ konsantrasyonu, başlangıç H2O2 ve Fe3+ konsantrasyonları), arıtma verimleri (KA, KOİ ve TOK) üzerindeki etkileri incelenmiş, deneysel çalışmalar sonucunda, KA içeren atıksularda tipik giriş KOİ konsantrasyonu olan 450 mg/L için optimum proses koşulları pHo = 3; H2O2o = 30 mM; Fe3+ = 0.5 mM, Işık şiddeti = 5550 lüks olarak bulunmuştur. Farklı ışık türleri ile (UV-C, UV-A ve Görünür ışık) gerçekleştirilen deneylerde yüksek giderim verimleri elde edilmiş, ışık şiddetinin azalması ile KA giderim verimlerinin düştüğü belirlenmiştir. Klorür, sülfat, fosfat ve nitrat iyonları kullanılarak yapılan çalışmalarda; düşük iyon konsantrasyonunda PO43- ve SO42- iyonlarının, yüksek iyon konsantrasyonunda ise PO43- ve Cl- iyonlarının KA giderimine inhibisyon etkisi gösterdiği ortaya konmuştur. KOİ ve TOK giderimleri incelendiğinde ise çalışılan her iki konsantrasyonda da PO43- ve Cl- iyonlarının inhibe edici etki gösterdiği, SO42- ve NO3- iyonlarının ise giderim hızlarını arttırdığı bulunmuştur. Ortamda fenol bulunması durumunda, proses verimlerinde ve reaksiyon hız sabitlerinde önemli mertebe düşüş olduğu gözlenmiştir. KA model kirleticisinin hidroksil radikali (HO•) ile ikinci derece reaksiyon hız sabiti, 1.16×109 M-1 s-1 olarak hesaplanmıştır. Çalışma sonunda elde edilen sonuçlar değerlendirildiğinde, foto-Fenton benzeri prosesinin K-asit arıtımında oldukça etkin olduğu, ancak proses hakkında daha detaylı bilgi edinmek için proses sırasında oluşan ara ürünlerin ve bu ürünlerin toksisitelerinin belirlenmesi gerektiği sonucuna varılmıştır.
In this study, the treatability of K-acid (KA) model pollutant which is commercially highly important, highly polar with tree sulphonate groups and biologically-difficult-to-degrade napthalene sulphonate, is examined with photo-Fenton like (Fe3+/H2O2/UV-A) advanced oxidation process (AOP). The effect of process variables (initial pH , COD, H2O2 ve Fe3+ concentrations) to treatment performance (KA, COD and TOC) has been evaluated and after some experimental studies, for 450 mg/L COD concentration that is typical COD concentration for wastewaters which contain KA, optimum process conditions have found as pHo = 3; H2O2o = 30 mM; Fe3+ = 0.5 mM, light intensity = 5550 lux. On experiments with different light types (UV-C, UV-A and visible light) high removal effiencies have achieved and by reducing light intensity KA removal efficiencies have reduced. In the presence of inorganic ions such as cloride, sulphate, phosphate and nitrate; PO43- and SO42- ions on low concentrations and PO43- and Cl- ions on high concentrations are revealed inhibitory effect on KA removal efficiency. For both concentrations PO43- and Cl- ions has revealed an inhibitory effect while SO42- and NO3- increased COD and TOC removal efficiencies. In the existence of fenol, a distinctive amount of reduce has been monitored on process efficiencies and reaction rates. The second-order rate constant of KA with hydroxyl radical is calculated as 1.16×109 M-1 s-1. As a result, the photo-Fenton like process is very effective on KA treatment but to be able to get more detailed information about process, derivatives and their toxicity must be determined.

Tanım

Tez (Yüksek Lisans) -- İstanbul Teknik Üniversitesi, Fen Bilimleri Enstitüsü, 2012
Thesis (M.Sc.) -- İstanbul Technical University, Institute of Science and Technology, 2012

Dergi veya Seri

ISSN

ISBN

Haklar

İTÜ tezleri telif hakkı ile korunmaktadır. Bunlar, bu kaynak üzerinden herhangi bir amaçla görüntülenebilir, ancak yazılı izin alınmadan herhangi bir biçimde yeniden oluşturulması veya dağıtılması yasaklanmıştır.
İTÜ theses are protected by copyright. They may be viewed from this source for any purpose, but reproduction or distribution in any format is prohibited without written permission.

Anahtar Kelimeler

Naftalen sülfonat, K-asit, İleri oksidasyon prosesleri, Foto-Fenton benzeri prosesi, Napthalene sulphonate, K-acid, Advanced oxidation processes, Photo-Fenton like process

Alıntı

Onay

Gözden geçir

Tamamlayıcı Bilgiler

Referans Gösteren

Related Patent

Related Goal

19
Görüntülenme
35
İndirme
Google Scholar
Scholar'da Ara ↗
Bu yayında DOI yok — Altmetric/Dimensions/PlumX/BIP! rozetleri DOI gerektirir.