Bu çalışmada, elektrokaplama prosesi ile üretilen NiFeB ve CoNiFeB alaşımlarında film bileşimi, kristal yapı, tane boyutu ve manyetik özellikler üzerine çözelti bileşimi ve deney şartlarının (akım yoğunluğu, ton, toff ve işlem süresi) etkileri araştırılmıştır. İnce filmlerin kristal yapıları X-ışınları difraksiyonu (XRD) ile belirlenmiştir. Film bileşimlerini analiz etmek için, r.f. GD-OES (Radio Frequency Glow Discharge Optical Emission Spectroscopy) cihazı kullanılmıştır. Kaplamaların yüzey topografileri, AFM ve FE-SEM cihazları ile görüntülenmiştir. Filmlerin mayetik özellikleri (Bs (doyurma akış yoğunluğu ) ve Hc (manyetik enerjiyi koruyabilirlilik)) ise titreşimli numune magnetometresi kullanılarak ölçülmüştür. Bu çalışama kapsamında NiFeB ve CoNiFeB üçlü ve dörtlü alaşımları elektrolitik olarak üretilmiş, kaplama parametreleri ile iç yapı değişimleri ve iç yapı değişimleri ile manyetik özellik ilişkileri araştırılmıştır.