Bir Tekstil Yüzey Aktif Maddesinin H2o2/uv-c Prosesiyle Arıtılabilirliğinin Yanıt Yüzey Yöntemiyle Modellenmesi Ve Optimizasyonu
Bir Tekstil Yüzey Aktif Maddesinin H2o2/uv-c Prosesiyle Arıtılabilirliğinin Yanıt Yüzey Yöntemiyle Modellenmesi Ve Optimizasyonu
Dosyalar
Tarih
2009-07-03
Yazarlar
Akın, Aslı
Süreli Yayın başlığı
Süreli Yayın ISSN
Cilt Başlığı
Yayınevi
Fen Bilimleri Enstitüsü
Institute of Science and Technology
Institute of Science and Technology
Özet
Bu çalışmada, tekstil endüstrisinde elyaf ön hazırlama işlemlerinde sıkça kullanılan lineer alkil etoksilat yapısındaki noniyonik bir yüzey aktif maddenin Foto-Fenton (Fe3+/H2O2/UV-A) ve H2O2/UV-C fotokimyasal ileri oksidasyon prosesleriyle arıtılabilirliği incelenmiştir. Prosesi etkileyen başlıca parametrelerin (başlangıç KOİ, TOK miktarı, başlangıç H2O2 konsantrasyonu ve reaksiyon süresi), proses üzerindeki etkileri ve birbirleriyle etkileşimleri incelenmiş ve söz konusu kirletici için en uygun tam ve kısmen oksidasyon koşulları Yanıt Yüzey Yöntemi kullanılarak modellenmiş ve optimize edilmiştir. Ayrıca, arıtılmamış ve H2O2/UV-C prosesiyle kısmen oksidasyona tabi tutulmuş yüzey aktif maddenin akut toksisitesinde meydana gelen değişiklikler aktif çamur inhibisyon deneyleriyle incelenmiştir. Elde edilen sonuçlardan, H2O2/UV-C prosesinin söz konusu yüzey aktif maddenin oksidasyonu için uygun bir proses olduğu ve tam oksidasyonunun (mineralizasyonunun) mümkün olduğu görülmüştür.
In this study; the treatability of a linear alkyl ethoxylated formed nonionic surfactant, which is densely used in fiber preperation stages, is investigated with photo-Fenton (Fe3+/H2O2/UV-A) and H2O2/UV-C photochemical advanced oxidation processes. By considering the factors affecting process performance (initial COD, TOC values, initial H2O2 concentration and reaction time) and their interactions, the most effective experimental conditions for the ultimate and partial oxidation of the aforesaid surfactant are modeled and optimized using Response Surface Methodology. Besides, the changes in acute toxicity of untreated (raw) and with H2O2/UV-C process partially treated surfactant are investigated with activated sludge inhibition tests. As can be seen from the experimental results, H2O2/UV-C process is the most appropriate process and ultimate oxidation (mineralization) of the aforesaid surfactant is possible.
In this study; the treatability of a linear alkyl ethoxylated formed nonionic surfactant, which is densely used in fiber preperation stages, is investigated with photo-Fenton (Fe3+/H2O2/UV-A) and H2O2/UV-C photochemical advanced oxidation processes. By considering the factors affecting process performance (initial COD, TOC values, initial H2O2 concentration and reaction time) and their interactions, the most effective experimental conditions for the ultimate and partial oxidation of the aforesaid surfactant are modeled and optimized using Response Surface Methodology. Besides, the changes in acute toxicity of untreated (raw) and with H2O2/UV-C process partially treated surfactant are investigated with activated sludge inhibition tests. As can be seen from the experimental results, H2O2/UV-C process is the most appropriate process and ultimate oxidation (mineralization) of the aforesaid surfactant is possible.
Açıklama
Tez (Yüksek Lisans) -- İstanbul Teknik Üniversitesi, Fen Bilimleri Enstitüsü, 2009
Thesis (M.Sc.) -- İstanbul Technical University, Institute of Science and Technology, 2009
Thesis (M.Sc.) -- İstanbul Technical University, Institute of Science and Technology, 2009
Anahtar kelimeler
Yüzey Aktif Maddeler,
Yanıt Yüzey Yöntemi,
H2O2/UV-C prosesi,
Aktif Çamur İnhibisyonu.,
Surfactants,
Response Surface Methodology,
H2O2/UV-C Process,
Activated Sludge Inhibition.