Please use this identifier to cite or link to this item: http://hdl.handle.net/11527/11116
Title: Sol-gel Yöntemiyle Hazırlanan Sio2-ta2o5 Katmanlı Yansıtmayıcı Kaplamalar
Other Titles: Antıreflectıng Coatıngs From Sio2-ta2o5 Layers Prepared By Sol-gel Method
Authors: Tepehan, Galip G.
Koç, Kenan
Fizik Mühendisliği
Physics Engineering
Keywords: : Sol-Gel
Ta2O5
SiO2
Yansıtmayıcı kaplamalar
Transfer matris
Sol-Gel, Ta2O5, SiO2, Antireflecting coatings, Transfer matrix
Publisher: Fen Bilimleri Enstitüsü
Institute of Science and Technology
Abstract: Bu çalışmada Ta2O5 ve SiO2 ince filmlerinden yapılan üç kat yansıtmayıcı filtrelerin sonuçları sunulmuştur. Filmleri hazırlamak için sol-gel döndürerek kaplama yöntemi kullanılmıştır. Filmlere 100°C’de 5 dakika ve 450°C’de 15 dakika ısıl işlem uygulanmıştır. Filmlerin yansıtma ve geçirgenliği NKD sistem (kırma indisi, söndürme indisi ve kalınlık ölçüm sistemi) kullanılarak elde edilmiştir. Filmlerin kalınlığı ve kırma indisi NKD sistemindeki yazılım ile hesaplanmıştır. Geçirgenlik ve yansıtma için teorik hesap transfer matris yöntemi kullanılarak yapılmıştır. Farklı oranlardaki Ta2O5 ve SiO2 karışımı filmlerin 100°C’de ve 450°C’de kırma indisi ve kalınlık gradyentleri elde edilmiştir. Sonuçlar 100°C’de ısıl işlem uygulanan sistem için 950 nm de, 450°C’de ısıl işlem uygulanan sistem için 790 nm de %1’in altında yansıtma göstermektedir.
This work present the result of three layer antireflecting filters made from Ta2O5 and SiO2 thin films. Sol-gel spin coating method is used to prepare the films. The films are heat treated at 100°C for 5 minutes and at 450°C for 15 minutes. The transmittance and reflectance of the films are obtained using NKD system (refractive index, extinction coefficient and thickness measuring system). The thickness and refractive index are calculated by making use of the software which is installed in the NKD system. A theoretical calculation is also made for the transmission and reflection by using transfer matrix method. Refractive indices and thickness gradients are obtained for various mixtures of Ta2O5 and SiO2 films at 100°C and 450°C. The result shows less than %1 reflectance at 950 nm for the system heat treated at 100°C and at 790 nm for the system heat treated at 450°C.
Description: Tez (Yüksek Lisans) -- İstanbul Teknik Üniversitesi, Fen Bilimleri Enstitüsü, 2004
Thesis (M.Sc.) -- İstanbul Technical University, Institute of Science and Technology, 2004
URI: http://hdl.handle.net/11527/11116
Appears in Collections:Fizik Mühendisliği Lisansüstü Programı - Yüksek Lisans

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
8141.pdf1.64 MBAdobe PDFView/Open


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.